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普通陽極氧化和硬質陽極氧化的區別：
硬質氧化的氧化膜有 50% 滲透在鋁合金內部， 50% 附著在鋁合金表面， 因此硬質氧化
后產品外部尺寸變大，內孔變小。
（一）操作條件方面的差異：
1 、溫度不同：普通氧化 18-22 ℃左右，有添加劑的可以到 30 ℃，溫度過高易出現粉
末或裂紋；硬質氧化一般在 5 ℃以下，相對來說溫度越低硬質越高。
2 、濃度差異：普通氧化一般 20% 左右；硬質氧化一般在 15% 或更低。
3 、電流 / 電壓差異：普通氧化電流密度一般： 1-1.5A/dm2 ；而硬質氧化： 1.5-5A/dm2 ；
普通氧化電壓 ≤18V ，硬質氧化有時高達 120V 。
（二）膜層性能方面的差異：
1 、膜層厚度：普通氧化膜層厚度相對較??；硬質氧化一般膜層厚度 >15 μm ，過低達
不到硬度 ≥300HV 的要求。
2 、表面狀態：普通氧化表面較光滑，而硬質氧化表面較粗糙（微觀，和基體表面粗糙
度有關）。
3 、孔隙率不同：普通氧化孔隙率高；而硬質氧化孔隙率低。
4 、普通氧化基本是透明膜；硬質氧化由于膜厚，為不透明膜。
5 、適用場合不同： 普通氧化適用于裝飾為主； 而硬質氧化以功能為主， 一般用于耐磨、
耐電的場合。
這些是我們平常用的較多的性能方面的比較，還有其他許多方面的差異。